塩化水素(HCl)

技術パラメータ:

塩化水素の化学式は HCl です。塩化水素分子は塩素原子と水素原子から構成されています。刺激臭のある無色の気体です。腐食性、不燃性のガスで、水とは反応しませんが、水に溶けやすいガスです。塩酸蒸気の形で空気中に存在することがよくあります。塩化水素はエタノールやエーテルに溶けやすく、他の多くの有機物質にも溶けます。水に非常に溶けやすく、0℃では、1 体積の水に約 500 体積の塩化水素を溶解できます。その水溶液は通称塩酸として知られており、学名は塩酸です。濃塩酸は揮発性です。塩化水素は無色で、融点は-114.2℃、沸点は-85℃です。空気中では燃えず、熱的にも安定です。約1500℃まで分解しません。窒息するような臭気があり、上気道に強い刺激性があり、目、皮膚、粘膜に対して腐食性があります。密度は空気よりも大きいです。乾燥塩化水素の化学的性質は非常に不活性です。アルカリ金属やアルカリ土類金属は塩化水素中で燃えることができ、ナトリウムが燃えると明るい黄色の炎を発します。塩化水素は、石油化学産業で触媒の有効性と再生を促進し、石油の粘度を高めるために使用されます。クロロスルホン酸、合成ゴムなどの製造に使用できます。また、染料、香料、薬物合成、さまざまな塩化物や腐食防止剤の製造、洗浄、酸洗い、金属の電気めっき、なめし、精製、超硬金属の製造にも使用できます。高純度塩化水素ガスは、エレクトロニクス産業におけるシリコンエピタキシャル成長、気相研磨、ゲッタリング、エッチング、洗浄プロセスで広く使用されています。

応用：

①材料：

塩化水素の大部分は塩酸の製造に使用されます。また、他の工業的な化学変換においても重要な試薬です。

②半導体：

半導体産業では、半導体結晶のエッチングとトリクロロシラン (SiHCl3) によるシリコンの精製の両方に使用されます。

③研究室：

実験室では、ガスの無水形態は塩化物ベースのルイス酸を生成するのに特に役立ちます。ルイス酸がルイス部位が機能するには完全に乾燥している必要があります。

通常パッケージ：

利点:

①高純度、最新の設備。

②ISO認証メーカー。

③短納期。

④各段階の品質管理のためのオンライン分析システム。

⑤充填前のシリンダーの取り扱いには高い要件と細心の注意が必要です。