特殊ガス
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四フッ化硫黄（SF4）
EINECS番号：232-013-4
CAS番号: 7783-60-0 -
亜酸化窒素（N2O）
亜酸化窒素（笑気ガスとも呼ばれる）は、化学式N2Oで表される危険な化学物質です。無色で甘い匂いのする気体です。N2Oは酸化剤であり、特定の条件下では燃焼を促進する可能性がありますが、室温では安定しており、わずかな麻酔効果があり、人を笑わせることができます。 -
四フッ化炭素（CF4）
四フッ化炭素（テトラフルオロメタンとも呼ばれる）は、常温常圧下では無色透明の気体で、水に不溶性です。CF4ガスは現在、マイクロエレクトロニクス業界で最も広く使用されているプラズマエッチングガスです。また、レーザーガス、極低温冷媒、溶剤、潤滑剤、絶縁材、赤外線検出器管の冷却材としても使用されています。 -
フッ化スルホニル（F2O2S）
有毒ガスであるフッ化スルホニルSO2F2は、主に殺虫剤として使用されます。フッ化スルホニルは、拡散性と浸透性が高く、広範囲の殺虫効果があり、低用量で残留量が少なく、殺虫速度が速く、ガス拡散時間が短く、低温でも使用しやすく、発芽率に影響を与えず、毒性が低いという特徴があるため、倉庫、貨物船、建物、貯水池、シロアリ防除などでますます広く使用されています。 -
シラン（SiH4）
シラン（SiH4）は、常温常圧下で無色透明で毒性があり、非常に反応性の高い圧縮ガスです。シランは、シリコンのエピタキシャル成長、ポリシリコン、酸化シリコン、窒化シリコンなどの原料、太陽電池、光ファイバー、着色ガラスの製造、化学気相成長法などに幅広く利用されています。 -
オクタフルオロシクロブタン（C4F8）
オクタフルオロシクロブタン（C4F8）は、純度99.999%のガスで、食品用エアロゾルの噴射剤や媒体ガスとしてよく使用されます。半導体製造プロセス（PECVD：プラズマ強化化学気相成長法）において、CF4やC2F6の代替ガスとして、洗浄ガスや半導体プロセス用エッチングガスとしてよく用いられます。 -
一酸化窒素（NO）
一酸化窒素ガスは、化学式NOで表される窒素化合物です。無色無臭の有毒ガスで、水には溶けません。一酸化窒素は化学的に非常に反応性が高く、酸素と反応して腐食性の二酸化窒素（NO₂）を生成します。 -
塩化水素（HCl）
塩化水素（HCl）ガスは、刺激臭のある無色の気体です。その水溶液は塩酸と呼ばれ、塩酸とも呼ばれます。塩化水素は主に染料、香辛料、医薬品、各種塩化物、腐食防止剤の製造に使用されます。 -
ヘキサフルオロプロピレン（C3F6）
ヘキサフルオロプロピレン（化学式：C3F6）は、常温常圧下では無色の気体です。主に各種フッ素含有ファインケミカル製品、医薬品中間体、消火剤などの製造に用いられ、フッ素含有高分子材料の製造にも使用できます。 -
アンモニア（NH3）
液体アンモニア／無水アンモニアは、幅広い用途を持つ重要な化学原料です。液体アンモニアは冷媒として使用できます。主に硝酸、尿素、その他の化学肥料の製造に使用され、医薬品や農薬の原料としても使用されます。防衛産業では、ロケットやミサイルの推進剤の製造に使用されます。
