トリクロリドホウ素（BCL3）は、半導体製造における乾燥エッチングおよび化学蒸気堆積（CVD）プロセスで一般的に使用される無機化合物です。それは室温で強い刺激臭を持つ無色のガスであり、塩酸とホウ酸を生成するために加水分解するため、湿った空気に敏感です。

トリクロリドホウ素の応用

半導体業界では、トリクロイドホウ素主にアルミニウムの乾燥エッチングに使用され、ドーパントとして使用して、シリコンウェーハにp型領域を形成します。また、GAAS、SI、ALNなどの材料をエッチングしたり、特定の特定のアプリケーションでホウ素源としてエッチングすることもできます。さらに、三塩化ホウ素は、金属加工、ガラス産業、化学分析、実験室の研究で広く使用されています。

三塩化ホウ素の安全

トリクロイドホウ素腐食性で毒性があり、目と皮膚に深刻な損傷を引き起こす可能性があります。湿った空気で加水分解して、有毒な塩化水素ガスを放出します。したがって、処理する際に適切な安全対策を講じる必要がありますトリクロイドホウ素、保護服、ゴーグル、呼吸保護装置の着用、換気の良い環境での操作など。