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酸素(O2)
酸素は無色無臭の気体です。これは酸素の最も一般的な元素形態です。技術的には、空気の液化プロセスから酸素を取り出しており、空気中の酸素は約21％を占めています。酸素は、化学式 O2 を持つ無色無臭の気体で、酸素の最も一般的な元素形態です。融点は-218.4℃、沸点は-183℃です。水に溶けにくいです。 1Lの水には約30mLの酸素が溶けており、液体酸素は空色です。 -
二酸化硫黄 (SO2)
二酸化硫黄（二酸化硫黄）は、化学式 SO2 で表される最も一般的で単純な刺激性の硫黄酸化物です。二酸化硫黄は、刺激臭のある無色透明の気体です。水、エタノール、エーテルに溶ける液体二酸化硫黄は比較的安定しており、不活性で不燃性であり、空気と爆発性混合物を形成しません。二酸化硫黄には漂白作用があります。二酸化硫黄は、パルプ、羊毛、絹、麦わら帽子などを漂白するために業界で一般的に使用されています。二酸化硫黄は、カビや細菌の増殖も抑制します。 -
エチレンオキシド (ETO)
エチレンオキシドは最も単純な環状エーテルの 1 つです。複素環化合物です。化学式はC2H4Oです。これは有毒な発がん物質であり、重要な石油化学製品です。エチレンオキシドの化学的性質は非常に活性です。多くの化合物と開環付加反応を起こすことができ、硝酸銀を還元できます。 -
1,3 ブタジエン (C4H6)
1,3-ブタジエンは、化学式 C4H6 の有機化合物です。わずかに芳香のある無色の気体で、容易に液化します。毒性はエチレンと同等で毒性は低いですが、皮膚や粘膜に対する刺激が強く、高濃度では麻酔効果があります。 -
水素(H2)
水素の化学式は H2、分子量は 2.01588 です。常温常圧下では非常に引火性が高く、無色透明、無臭、無味の気体で、水には溶けにくく、ほとんどの物質とは反応しません。 -
ネオン（Ne）
ネオンは、化学式 Ne で表される無色、無臭、不燃性の希ガスです。通常、ネオンは屋外広告ディスプレイ用のカラーネオンライトの充填ガスとして使用でき、視覚的な光インジケーターや電圧調整にも使用できます。レーザーガス混合成分。ネオン、クリプトン、キセノンなどの希ガスをガラス製品の充填に使用して、ガラス製品の性能や機能を向上させることもできます。 -
四フッ化炭素(CF4)
四フッ化炭素はテトラフルオロメタンとしても知られ、常温常圧では無色の気体で、水に不溶です。 CF4 ガスは現在、マイクロエレクトロニクス産業で最も広く使用されているプラズマ エッチング ガスです。レーザーガス、極低温冷媒、溶剤、潤滑剤、絶縁材、赤外線検出管の冷却材としても使用されます。 -
フッ化スルフリル (F2O2S)
フッ化スルフリル SO2F2 は有毒ガスであり、主に殺虫剤として使用されます。フッ化スルフリルは、強力な拡散性と浸透性、広範囲の殺虫剤、低用量、低残存量、早い殺虫速度、短いガス散布時間、低温での使用の便利さ、発芽率への影響なし、低毒性などの特徴を備えているため、より多くの効果が得られます。倉庫、貨物船、ビル、貯水池ダム、シロアリ予防などでの使用が増えています。 -
シラン (SiH4)
シラン SiH4 は、常温常圧で無色の有毒で非常に活性な圧縮ガスです。シランはシリコンのエピタキシャル成長、ポリシリコン、酸化シリコン、窒化シリコンなどの原料、太陽電池、光ファイバー、色ガラスの製造、化学気相成長などに広く使用されています。 -
オクタフルオロシクロブタン (C4F8)
オクタフルオロシクロブタン C4F8、ガス純度: 99.999%、食品エアロゾル噴射剤および媒体ガスとしてよく使用されます。 C4F8 は半導体 PECVD (プラズマ強化化学気相成長) プロセスでよく使用され、クリーニング ガスや半導体プロセスのエッチング ガスとして使用される CF4 または C2F6 の代替として使用されます。 -
一酸化窒素 (NO)
一酸化窒素ガスは、化学式 NO を持つ窒素の化合物です。無色、無臭、水に溶けない有毒ガスです。一酸化窒素は化学的に非常に反応性が高く、酸素と反応して腐食性ガスである二酸化窒素 (NO₂) を生成します。 -
塩化水素(HCl)
塩化水素 HCL ガスは、刺激臭のある無色の気体です。その水溶液は塩酸と呼ばれ、塩酸としても知られています。塩化水素は主に、染料、香辛料、医薬品、さまざまな塩化物、腐食防止剤の製造に使用されます。
