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酸素（O2）
酸素は無色無臭の気体です。酸素の最も一般的な元素形態です。技術的には、酸素は空気液化プロセスから抽出され、空気中の酸素は約21%を占めています。酸素は化学式O2で表される無色無臭の気体で、酸素の最も一般的な元素形態です。融点は-218.4℃、沸点は-183℃です。水には溶けにくい性質があります。約30mLの酸素が1Lの水に溶け、液体酸素は空色です。 -
二酸化硫黄（SO2）
二酸化硫黄は、化学式SO2で表される、最も一般的で単純な、刺激性の強い硫黄酸化物です。二酸化硫黄は無色透明の気体で、刺激臭があります。水、エタノール、エーテルに溶解し、液体二酸化硫黄は比較的安定しており、不活性で、不燃性であり、空気と爆発性混合物を形成しません。二酸化硫黄には漂白作用があります。二酸化硫黄は、パルプ、羊毛、絹、麦わら帽子などの漂白に工業的に広く使用されています。また、二酸化硫黄はカビや細菌の増殖を抑制する効果もあります。 -
酸化エチレン（ETO）
酸化エチレンは最も単純な環状エーテルの一つです。これは複素環式化合物であり、化学式はC2H4Oです。毒性のある発がん性物質であり、重要な石油化学製品でもあります。酸化エチレンの化学的性質は非常に活発で、多くの化合物と開環付加反応を起こし、硝酸銀を還元することができます。 -
1,3-ブタジエン（C4H6）
1,3-ブタジエンは、化学式C4H6で表される有機化合物です。無色透明でわずかに芳香があり、液化しやすい性質を持ちます。毒性はエチレンと同程度と比較的低いものの、皮膚や粘膜への刺激性が高く、高濃度では麻酔作用を示します。 -
水素（H2）
水素の化学式はH2、分子量は2.01588です。常温常圧下では、極めて可燃性が高く、無色透明で無臭無味の気体であり、水に溶けにくく、ほとんどの物質と反応しません。 -
ネオン（Ne）
ネオンは、化学式Neで表される無色無臭の不燃性希ガスです。通常、ネオンは屋外広告ディスプレイ用のカラーネオンライトの充填ガスとして使用されるほか、視覚表示灯や電圧調整器、レーザーガス混合物の構成要素としても使用されます。ネオン、クリプトン、キセノンなどの希ガスは、ガラス製品の性能や機能を向上させるために充填ガスとしても使用されます。 -
四フッ化炭素（CF4）
四フッ化炭素（テトラフルオロメタンとも呼ばれる）は、常温常圧下では無色透明の気体で、水に不溶性です。CF4ガスは現在、マイクロエレクトロニクス業界で最も広く使用されているプラズマエッチングガスです。また、レーザーガス、極低温冷媒、溶剤、潤滑剤、絶縁材、赤外線検出器管の冷却材としても使用されています。 -
フッ化スルホニル（F2O2S）
有毒ガスであるフッ化スルホニルSO2F2は、主に殺虫剤として使用されます。フッ化スルホニルは、拡散性と浸透性が高く、広範囲の殺虫効果があり、低用量で残留量が少なく、殺虫速度が速く、ガス拡散時間が短く、低温でも使用しやすく、発芽率に影響を与えず、毒性が低いという特徴があるため、倉庫、貨物船、建物、貯水池、シロアリ防除などでますます広く使用されています。 -
シラン（SiH4）
シラン（SiH4）は、常温常圧下で無色透明で毒性があり、非常に反応性の高い圧縮ガスです。シランは、シリコンのエピタキシャル成長、ポリシリコン、酸化シリコン、窒化シリコンなどの原料、太陽電池、光ファイバー、着色ガラスの製造、化学気相成長法などに幅広く利用されています。 -
オクタフルオロシクロブタン（C4F8）
オクタフルオロシクロブタン（C4F8）は、純度99.999%のガスで、食品用エアロゾルの噴射剤や媒体ガスとしてよく使用されます。半導体製造プロセス（PECVD：プラズマ強化化学気相成長法）において、CF4やC2F6の代替ガスとして、洗浄ガスや半導体プロセス用エッチングガスとしてよく用いられます。 -
一酸化窒素（NO）
一酸化窒素ガスは、化学式NOで表される窒素化合物です。無色無臭の有毒ガスで、水には溶けません。一酸化窒素は化学的に非常に反応性が高く、酸素と反応して腐食性の二酸化窒素（NO₂）を生成します。 -
塩化水素（HCl）
塩化水素（HCl）ガスは、刺激臭のある無色の気体です。その水溶液は塩酸と呼ばれ、塩酸とも呼ばれます。塩化水素は主に染料、香辛料、医薬品、各種塩化物、腐食防止剤の製造に使用されます。
